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Nuage de motsUn nuage de mots est une représentation visuelle des mots les plus fréquemment utilisés dans un texte ou un ensemble de textes. Les mots apparaissent dans différentes tailles, la taille de chaque mot étant proportionnelle à sa fréquence d'apparition dans le texte. Plus un mot est utilisé fréquemment, plus il apparaît en grand dans le nuage de mots. Cette technique permet de visualiser rapidement les thèmes et les concepts les plus importants d'un texte.
Dans le contexte de cette page, le nuage de mots a été généré à partir des publications de l'auteur {}. Les mots présents dans ce nuage proviennent des titres, résumés et mots-clés des articles et travaux de recherche de cet auteur. En analysant ce nuage de mots, vous pouvez obtenir un aperçu des sujets et des domaines de recherche les plus récurrents et significatifs dans les travaux de cet auteur.Le nuage de mots est un outil utile pour identifier les tendances et les thèmes principaux dans un corpus de textes, facilitant ainsi la compréhension et l'analyse des contenus de manière visuelle et intuitive.
Claude, R., Moisan, M., & Wertheimer, M. R. (2011). RF and Microwave Plasma Deposition of Polymer Films: Effect of Frequency. MRS Proceedings, 68. Lien externe
Campillo, C., Ilias, S., Borges, C. F. M., Moisan, M., & Martinu, L. (2001). Enhanced Diamond Film Adhesion on Cobalt-Cemented Wc Substrates. New Diamond and Frontier Carbon Technology, 11(2), 147-156. Lien externe
Moisan, M., Barbeau, J., Moreau, S., Pelletier, J., Tabrizian, M., & Yahia, L. (2001). Low-Temperature Sterilization Using Gas Plasmas: a Review of the Experiments and an Analysis of the Inactivation Mechanisms. International Journal of Pharmaceutics, 226(1-2), 1-21. Lien externe
Moreau, S., Moisan, M., Tabrizian, M., Barbeau, J., Pelletier, J., Ricard, A., & Yahia, L. (2000). Using the Flowing Afterglow of a Plasma to Inactivate Bacillus Subtilis Spores: Influence of the Operating Conditions. Journal of Applied Physics, 88(2), 1166-1174. Lien externe
Fozza, A. C., Moisan, M., & Wertheimer, M. R. (2000). Vacuum Ultraviolet to Visible Emission From Hydrogen Plasma: Effect of Excitation Frequency. Journal of Applied Physics, 88(1), 20-33. Lien externe
Fozza, A. C., Moisan, M., & Wertheimer, M. R. (août 1999). VUV-visible emission spectroscopy investigation of frequency effects in low pressure plasmas [Communication écrite]. 14th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 1999), Prague, Czech Republic. Lien externe
Schelz, S., Martinu, L., & Moisan, M. (1998). Diamond Nucleation Enhancement by Pretreating the Silicon Substrate With a Fluorocarbon Plasma. Diamond and Related Materials, 7(9), 1291-1302. Lien externe
Schelz, S., Borges, C. F. M., Martinu, L., & Moisan, M. (1997). Chemical vapor deposition of diamond films on hydrofluoric acid etched silicon substrates. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 15(5), 2743-2749. Lien externe
Schelz, S., Borges, C. F. M., Martinu, L., & Moisan, M. (1997). Diamond nucleation enhancement by hydrofluoric acid etching of silicon substrate. Diamond and Related Materials, 6(2-4), 440-443. Lien externe
Wertheimer, M. R., Martinu, L., & Moisan, M. (1997). Microwave and Dual-Frequency Plasma Processing. Dans d'Agostino, R., Favia, P., & Fracassi, F. (édit.), Plasma Processing of Polymers (p. 101-127). Lien externe
Borges, C. F. M., Schelz, S., Martinu, L., & Moisan, M. (1996). Adhesion of CVD diamond films on silicon substrates of different crystallographic orientations. Diamond and Related Materials, 5(12), 1402-1406. Lien externe
Borges, C. F. M., Schelz, S., St Onge, L., Moisan, M., & Martinu, L. (1996). Silicon contamination of diamond films deposited on silicon substrates in fused silica based reactors. Journal of Applied Physics, 79(6), 3290-3298. Lien externe
Wertheimer, M. R., & Moisan, M. (1994). Processing of electronic materials by microwave plasma. Pure and Applied Chemistry, 66(6), 1343-1352. Lien externe
Moisan, M., & Wertheimer, M. R. (1993). Comparison of microwave and r.f. plasmas: fundamentals and applications. Surface and Coatings Technology, 59(1), 1-13. Lien externe
Wertheimer, M. R., & Moisan, M. (août 1993). Processing of electronic materials by microwave plasma [Communication écrite]. 11th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 1993), Loughborough, UK. Lien externe
Moisan, M., Barbeau, C., Claude, R., Ferreira, C. M., Margot, J., Paraszczak, J., Sá, A. B., Sauvé, G., & Wertheimer, M. R. (1991). Radio frequency or microwave plasma reactors? Factors determining the optimum frequency of operation. Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena, 9(1), 8-25. Lien externe
Wertheimer, M. R., Moisan, M., Sapieha, J.-E., & Claude, R. (1988). Effect of frequency from 'low frequency' to microwave on the plasma deposition of thin films. Pure and Applied Chemistry, 60(5), 815-815. Lien externe
Claude, R., Moisan, M., Wertheimer, M. R., & Zakrzewski, Z. (1987). Comparison of microwave and lower-frequency discharges for plasma polymerization. Plasma Chemistry and Plasma Processing, 7(4), 451-464. Lien externe
Wertheimer, M. R., Moisan, M., Sapieha, J.-E., & Claude, R. (août 1987). Effect of frequency from "low frequency" to microwave on the plasma deposition of thin films [Communication écrite]. 8th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 1987), Tokyo, Japan. Lien externe
Wertheimer, M. R., & Moisan, M. (1985). Comparison of microwave and lower frequency plasmas for thin film deposition and etching. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 3(6), 2643-2649. Lien externe
