Michael R. Wertheimer
, M. Moisan, Jolanta-Ewa Sapieha, R. Claude
Communication écrite (1987)
Accéder à ce document
Lien externe
Ce document n'est pas archivé dans PolyPublie, mais peut être consulté chez l'éditeur officiel
Département:
Unité de recherche:
Adresse URL de PolyPublie:
Nom de la conférence:
8th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 1987)
Lieu de la conférence:
Tokyo, Japan
Date(s) de la conférence:
1987-08-31 - 1987-09-04
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:66773
ORCID
Date du dépôt:
29 juil. 2025 15:37
Dernière modification:
14 oct. 2026 14:28
Citer en APA 7:
Wertheimer, M. R., Moisan, M., Sapieha, J.-E., & Claude, R. (août 1987). Effect of frequency from "low frequency" to microwave on the plasma deposition of thin films [Communication écrite]. 8th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 1987), Tokyo, Japan. https://www.ispc-conference.org/ispcdocs/ispc8/content/8/08-1253.pdf
Statistiques
Aucune statistique n'est disponible.
