Michael R. Wertheimer
, M. Moisan
Article de revue (1985)
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Titre de la revue
:
Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films
(
vol.
3
,
no
6
)
Maison d'édition:
American Vacuum Society
DOI:
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:38244
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:26
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:29
Citer en APA 7:
Wertheimer, M. R., & Moisan, M. (1985). Comparison of microwave and lower frequency plasmas for thin film deposition and etching. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 3(6), 2643-2649. https://doi.org/10.1116/1.572805
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