Michael R. Wertheimer
, M. Moisan, Jolanta-Ewa Sapieha, R. Claude
Article de revue (1988)
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Titre de la revue
:
Pure and Applied Chemistry
(
vol.
60
,
no
5
)
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:38245
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:26
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:29
Citer en APA 7:
Wertheimer, M. R., Moisan, M., Sapieha, J.-E., & Claude, R. (1988). Effect of frequency from 'low frequency' to microwave on the plasma deposition of thin films. Pure and Applied Chemistry, 60(5), 815-815. https://doi.org/10.1351/pac198860050815
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