Effect of frequency from 'low frequency' to microwave on the plasma deposition of thin films

Michael R. Wertheimer, M. Moisan, Jolanta-Ewa Sapieha et R. Claude

Article de revue (1988)

Un lien externe est disponible pour ce document

Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/38245/
Titre de la revue:	Pure and Applied Chemistry (vol. 60, no 5)
DOI:	10.1351/pac198860050815
URL officielle:	https://doi.org/10.1351/pac198860050815
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:26
Dernière modification:	05 avr. 2024 11:32

Citer en APA 7:	Wertheimer, M. R., Moisan, M., Sapieha, J.-E., & Claude, R. (1988). Effect of frequency from 'low frequency' to microwave on the plasma deposition of thin films. Pure and Applied Chemistry, 60(5), 815-815. https://doi.org/10.1351/pac198860050815
APA 7 (HTML)ASCII CitationAtomBibTeXDOIsDublin CoreEndNote (.ENW)MARC (ISO 2709/UTF-8) (.MRC)MARC (UTF-8) (.MRK8)MARC XMLMPEG-21 DIDLMultiline CSVOAI-ORE Resource Map (Atom Format)OPENAIREOpenURL ContextObjectOpenURL ContextObject in SpanRDF+N-TriplesRDF+N3RDF+XMLReferReference Manager (.RIS)Répertoire des publications (EndNote)Simple Metadata

Statistiques

Actions réservées au personnel