Chemical vapor deposition of diamond films on hydrofluoric acid etched silicon substrates

S. Schelz, C. F. M. Borges, Ludvik Martinu et M. Moisan

Article de revue (1997)

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Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/41809/
Titre de la revue:	Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films (vol. 15, no 5)
Maison d'édition:	American Institute of Physics
DOI:	10.1116/1.580938
URL officielle:	https://doi.org/10.1116/1.580938
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:23
Dernière modification:	05 avr. 2024 11:38

Citer en APA 7:	Schelz, S., Borges, C. F. M., Martinu, L., & Moisan, M. (1997). Chemical vapor deposition of diamond films on hydrofluoric acid etched silicon substrates. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 15(5), 2743-2749. https://doi.org/10.1116/1.580938
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