S. Schelz, C. F. M. Borges, Ludvik Martinu
, M. Moisan
Article de revue (1997)
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Département:
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Titre de la revue
:
Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films
(
vol.
15
,
no
5
)
Maison d'édition:
American Institute of Physics
DOI:
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:41809
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:23
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:52
Citer en APA 7:
Schelz, S., Borges, C. F. M., Martinu, L., & Moisan, M. (1997). Chemical vapor deposition of diamond films on hydrofluoric acid etched silicon substrates. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 15(5), 2743-2749. https://doi.org/10.1116/1.580938
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