Silicon contamination of diamond films deposited on silicon substrates in fused silica based reactors

C. F. M. Borges, S. Schelz, L. St Onge, M. Moisan et Ludvik Martinu

Article de revue (1996)

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Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/31482/
Titre de la revue:	Journal of Applied Physics (vol. 79, no 6)
Maison d'édition:	American Institute of Physics
DOI:	10.1063/1.361228
URL officielle:	https://doi.org/10.1063/1.361228
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:24
Dernière modification:	05 avr. 2024 11:21

Citer en APA 7:	Borges, C. F. M., Schelz, S., St Onge, L., Moisan, M., & Martinu, L. (1996). Silicon contamination of diamond films deposited on silicon substrates in fused silica based reactors. Journal of Applied Physics, 79(6), 3290-3298. https://doi.org/10.1063/1.361228
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