C. F. M. Borges, S. Schelz, L. St Onge, M. Moisan, Ludvik Martinu
Article de revue (1996)
Accéder à ce document
Lien externe
Ce document n'est pas archivé dans PolyPublie, mais peut être consulté chez l'éditeur officiel
Département:
Adresse URL de PolyPublie:
Titre de la revue
:
Journal of Applied Physics
(
vol.
79
,
no
6
)
Maison d'édition:
American Institute of Physics
DOI:
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:31482
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:24
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:18
Citer en APA 7:
Borges, C. F. M., Schelz, S., St Onge, L., Moisan, M., & Martinu, L. (1996). Silicon contamination of diamond films deposited on silicon substrates in fused silica based reactors. Journal of Applied Physics, 79(6), 3290-3298. https://doi.org/10.1063/1.361228
Statistiques
Dimensions
