Monter d'un niveau |
Ce graphique trace les liens entre tous les collaborateurs des publications de {} figurant sur cette page.
Chaque lien représente une collaboration sur la même publication. L'épaisseur du lien représente le nombre de collaborations.
Utilisez la molette de la souris ou les gestes de défilement pour zoomer à l'intérieur du graphique.
Vous pouvez cliquer sur les noeuds et les liens pour les mettre en surbrillance et déplacer les noeuds en les glissant.
Enfoncez la touche "Ctrl" ou la touche "⌘" en cliquant sur les noeuds pour ouvrir la liste des publications de cette personne.
Anders, A., Capek, J., Hala, M., & Martinu, L. (2012). The 'Recycling Trap': a Generalized Explanation of Discharge Runaway in High-Power Impulse Magnetron Sputtering. Journal of Physics D: Applied Physics, 45(1), 5-5. Lien externe
Capek, J., Hala, M., Zabeida, O., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2013). Deposition rate enhancement in HiPIMS without compromising the ionized fraction of the deposition flux. Journal of Physics D: Applied Physics, 46(20), 10 pages. Lien externe
Capek, J., Hala, M., Zabeida, O., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2012). Steady State Discharge Optimization in High-Power Impulse Magnetron Sputtering Through the Control of the Magnetic Field. Journal of Applied Physics, 111(2), 9 pages. Lien externe
Hala, M., Vernhes, R., Zabeida, O., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2014). Reactive HiPIMS deposition of SiO₂/Ta₂O₅ optical interference filters. Journal of Applied Physics, 116(21), 213302-213302. Lien externe
Hala, M., Capek, J., Zabeida, O., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2012). Hysteresis-Free Deposition of Niobium Oxide Films by Hipims Using Different Pulse Management Strategies. Journal of Physics D: Applied Physics, 45(5). Lien externe
Hala, M., Capek, J., Zabeida, O., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2012). Pulse Management in High Power Pulsed Magnetron Sputtering of Niobium. Surface and Coatings Technology, 206(19-20), 4186-4193. Lien externe
Hala, M., Zabeida, O., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2011). Dynamics of HiPIMS discharge operated in oxygen. IEEE Transactions on Plasma Science, 39(11), 2582-2583. Lien externe
Hala, M., Viau, N., Zabeida, O., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2010). Dynamics of reactive high-power impulse magnetron sputtering discharge studied by time- and space-resolved optical emission spectroscopy and fast imaging. Journal of Applied Physics, 107(4), 043305. Lien externe