Reactive HiPIMS deposition of SiO₂/Ta₂O₅ optical interference filters

Matěj Hala, Richard Vernhes, Oleg Zabeida, Jolanta-Ewa Sapieha, Ludvik Martinu

Article de revue (2014)

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Titre de la revue :
Journal of Applied Physics ( vol. 116 , no 21 )
Maison d'édition:
American Institute of Physics
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:41948
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:08
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:52
Citer en APA 7:
Hala, M., Vernhes, R., Zabeida, O., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2014). Reactive HiPIMS deposition of SiO₂/Ta₂O₅ optical interference filters. Journal of Applied Physics, 116(21), 213302-213302. https://doi.org/10.1063/1.4903285

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