Steady State Discharge Optimization in High-Power Impulse Magnetron Sputtering Through the Control of the Magnetic Field

J. Capek, M. Hala, O. Zabeida, Jolanta-Ewa Sapieha et Ludvik Martinu

Article de revue (2012)

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Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/15700/
Titre de la revue:	Journal of Applied Physics (vol. 111, no 2)
Maison d'édition:	American Institute of Physics
DOI:	10.1063/1.3673871
URL officielle:	https://doi.org/10.1063/1.3673871
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:10
Dernière modification:	05 avr. 2024 10:56

Citer en APA 7:	Capek, J., Hala, M., Zabeida, O., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2012). Steady State Discharge Optimization in High-Power Impulse Magnetron Sputtering Through the Control of the Magnetic Field. Journal of Applied Physics, 111(2), 9 pages. https://doi.org/10.1063/1.3673871
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