Jiří Čapek, Matěj Hala, Oleg Zabeida, Jolanta-Ewa Sapieha
, Ludvik Martinu
Article de revue (2013)
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Titre de la revue
:
Journal of Physics D: Applied Physics
(
vol.
46
,
no
20
)
Maison d'édition:
IOP Publishing
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:14158
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:09
Dernière modification:
14 oct. 2026 11:15
Citer en APA 7:
Čapek, J., Hala, M., Zabeida, O., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2013). Deposition rate enhancement in HiPIMS without compromising the ionized fraction of the deposition flux. Journal of Physics D: Applied Physics, 46(20), 10 pages. https://doi.org/10.1088/0022-3727/46/20/205205
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