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Nuage de motsUn nuage de mots est une représentation visuelle des mots les plus fréquemment utilisés dans un texte ou un ensemble de textes. Les mots apparaissent dans différentes tailles, la taille de chaque mot étant proportionnelle à sa fréquence d'apparition dans le texte. Plus un mot est utilisé fréquemment, plus il apparaît en grand dans le nuage de mots. Cette technique permet de visualiser rapidement les thèmes et les concepts les plus importants d'un texte.
Dans le contexte de cette page, le nuage de mots a été généré à partir des publications de l'auteur {}. Les mots présents dans ce nuage proviennent des titres, résumés et mots-clés des articles et travaux de recherche de cet auteur. En analysant ce nuage de mots, vous pouvez obtenir un aperçu des sujets et des domaines de recherche les plus récurrents et significatifs dans les travaux de cet auteur.Le nuage de mots est un outil utile pour identifier les tendances et les thèmes principaux dans un corpus de textes, facilitant ainsi la compréhension et l'analyse des contenus de manière visuelle et intuitive.
Bettayeb, B., Bassetto, S., Vialletelle, P., & Tollenaere, M. (2012). Quality and exposure control in semiconductor manufacturing. Part I: Modelling. International Journal of Production Research, 50(23), 6835-6851. Lien externe
Bettayeb, B., Bassetto, S., Vialletelle, P., & Tollenaere, M. (2012). Quality and exposure control in semiconductor manufacturing. Part II: Evaluation. International Journal of Production Research, 50(23), 6852-6869. Lien externe
Bassetto, S., Siadat, A., & Tollenaere, M. (2011). The management of process control deployment using interactions in risks analyses. Journal of Loss Prevention in the Process Industries, 24(4), 458-465. Lien externe
Bettayeb, B., Tollenaere, M., & Bassetto, S. (octobre 2011). Plan de surveillance basé sur l'exposition aux risques et les capabilités des ressources [Communication écrite]. 9e Congrès international de génie industriel (CIGI 2011), Saint-Sauveur, Québec. Non disponible
Bettayeb, B., Vialletelle, P., Bassetto, S., & Tollenaere, M. (novembre 2010). Operational risk evaluation and control plan design [Communication écrite]. 13th ARCSIS Technical & Scientific Meeting, Manufacturing Challenges in European Semiconductor Fabs, Rousset, France. Non disponible
Bettayeb, B., Vialletelle, P., Bassetto, S., & Tollenaere, M. (octobre 2010). Optimized design of control plans based on risk exposure and resources capabilities [Communication écrite]. International Symposium on Semiconductor Manufacturing (ISSM 2010), Tokyo. Japan. Lien externe
Bassetto, S., Mili, A., Siadat, A., & Tollenaere, M. (juin 2007). Proposition d'organisation du retour d'expériences par la gestion des risques pour faciliter l'industrialisation [Communication écrite]. 7e Congrès international de génie industriel (CIGI 2007), Trois-Rivières, Québec. Non disponible
Fiegenwald, V., Bassetto, S., & Tollenaere, M. (décembre 2011). Controlling non-conformities propagation in manufacturing. Case study in an electromechanical assembly plant [Communication écrite]. IEEE International Conference on Industrial Engineering and Engineering Management (IEEM 2011), Singapore, Singapore. Lien externe
Fiegenwald, V., Bassetto, S., & Tollenaere, M. (octobre 2011). Vers la maîtrise de la propagation des non-conformités en fabrication : cas d'étude dans une usine d'assemblage électromécanique [Communication écrite]. 9e Congrès international de génie industriel (CIGI 2011), Saint-Sauveur, Québec. Non disponible
Mili, A., Siadat, A., Bassetto, S., Hubac, S., & Tollenaere, M. (mars 2009). Unified process for action plan management: Case study in a research and production semiconductor factory [Communication écrite]. 3rd Annual IEEE Systems Systems Conference, Vancouver, British Columbia. Lien externe
Sahnoun, M. , Bettayeb, B., Bassetto, S., & Tollenaere, M. (2014). Simulation-based optimization of sampling plans to reduce inspections while mastering the risk exposure in semiconductor manufacturing. Journal of Intelligent Manufacturing, 27(6), 1335-1349. Lien externe
Sahnoun, M. , Bettayeb, B., Tollenaere, M., & Bassetto, S. (mars 2012). Smart sampling for risk reduction and delay optimisation [Communication écrite]. IEEE International Systems Conference, Vancouver, BC, Canada. Lien externe
Sahnoun, M. , Vialletelle, P., Bassetto, S., Tollenaere, M., & Bastoini, S. (novembre 2010). Historical wafer-at-risk construction in STMicroelectronics 300mm wafer fab in crollesoptimizing return on inspection through defectivity smart skipping [Communication écrite]. Manufacturing Challenges in European Semiconductor Fabs, Rousset, France. Non disponible
Sahnoun, M., Vialletelle, P., Bastoini, S., Bassetto, S., & Tollenaere, M. (octobre 2010). Optimized return on inspection through smart-sampling [Communication écrite]. International Symposium on Semiconductor Manufacturing (ISSM 2010), Tokyo, Japan. Lien externe
Tadja, D. D., Lehyani, F., Bassetto, S., Zouari, A., Tollenaere, M., & Wong, T. M. (2025). Inclusive tool to assess lean manufacturing maturity and its relationship with the size or location of the company in Greater Montreal, Canada. Cogent Engineering, 12(1), 30 pages. Lien externe
Tadja, D. D., Bassetto, S., Tollenaere, M., & Wong, T. (2021). Les objets connectés pour améliorer la culture de la production épurée : revue de littérature et esquisse de solution applicable aux entreprises manufacturières. [Industrial Internet of Things to improve lean manufacturing culture: literature review and solution outline for manufacturing plants]. Génie industriel et productique, 4(1), 35 pages. Lien externe
