Quality and exposure control in semiconductor manufacturing. Part II: Evaluation

Belgacem Bettayeb, Samuel Bassetto, Philippe Vialletelle, Michel Tollenaere

Article de revue (2012)

Accéder à ce document
Lien externe
Ce document n'est pas archivé dans PolyPublie, mais peut être consulté chez l'éditeur officiel
Adresse URL de PolyPublie:
Titre de la revue :
International Journal of Production Research ( vol. 50 , no 23 )
Maison d'édition:
Taylor & Francis
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:15774
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:10
Dernière modification:
14 oct. 2026 11:17
Citer en APA 7:
Bettayeb, B., Bassetto, S., Vialletelle, P., & Tollenaere, M. (2012). Quality and exposure control in semiconductor manufacturing. Part II: Evaluation. International Journal of Production Research, 50(23), 6852-6869. https://doi.org/10.1080/00207543.2011.630043

Statistiques

Dimensions

Actions réservées au personnel

Afficher document
Afficher document