Quality and exposure control in semiconductor manufacturing. Part II: Evaluation

Belgacem Bettayeb, Samuel Bassetto, Philippe Vialletelle et Michel Tollenaere

Article de revue (2012)

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Département:	Département de mathématiques et de génie industriel
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/15774/
Titre de la revue:	International Journal of Production Research (vol. 50, no 23)
Maison d'édition:	Taylor & Francis
DOI:	10.1080/00207543.2011.630043
URL officielle:	https://doi.org/10.1080/00207543.2011.630043
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:10
Dernière modification:	05 avr. 2024 10:56

Citer en APA 7:	Bettayeb, B., Bassetto, S., Vialletelle, P., & Tollenaere, M. (2012). Quality and exposure control in semiconductor manufacturing. Part II: Evaluation. International Journal of Production Research, 50(23), 6852-6869. https://doi.org/10.1080/00207543.2011.630043
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