Belgacem Bettayeb, Philippe Vialletelle, Samuel Bassetto
et Michel Tollenaere
Communication écrite (2010)
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| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/18621/ |
|---|---|
| Nom de la conférence: | International Symposium on Semiconductor Manufacturing (ISSM 2010) |
| Lieu de la conférence: | Tokyo. Japan |
| Date(s) de la conférence: | 2010-10-18 - 2010-10-20 |
| Maison d'édition: | IEEE |
| URL officielle: | https://ieeexplore.ieee.org/document/5750227 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:13 |
| Dernière modification: | 05 avr. 2024 11:00 |
| Citer en APA 7: | Bettayeb, B., Vialletelle, P., Bassetto, S., & Tollenaere, M. (octobre 2010). Optimized design of control plans based on risk exposure and ressources capabilites [Communication écrite]. International Symposium on Semiconductor Manufacturing (ISSM 2010), Tokyo. Japan. https://ieeexplore.ieee.org/document/5750227 |
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