Belgacem Bettayeb, Philippe Vialletelle, Samuel Bassetto
, Michel Tollenaere
Communication écrite (2010)
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ISBN:
9781457703928
Adresse URL de PolyPublie:
Nom de la conférence:
International Symposium on Semiconductor Manufacturing (ISSM 2010)
Lieu de la conférence:
Tokyo. Japan
Date(s) de la conférence:
2010-10-18 - 2010-10-20
Maison d'édition:
IEEE
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:18621
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:13
Dernière modification:
14 oct. 2026 11:21
Citer en APA 7:
Bettayeb, B., Vialletelle, P., Bassetto, S., & Tollenaere, M. (octobre 2010). Optimized design of control plans based on risk exposure and resources capabilities [Communication écrite]. International Symposium on Semiconductor Manufacturing (ISSM 2010), Tokyo. Japan. https://ieeexplore.ieee.org/document/5750227
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