Belgacem Bettayeb, Samuel Bassetto
, Philippe Vialletelle et Michel Tollenaere
Article de revue (2012)
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| Département: | Département de mathématiques et de génie industriel |
|---|---|
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/15773/ |
| Titre de la revue: | International Journal of Production Research (vol. 50, no 23) |
| Maison d'édition: | Taylor & Francis |
| DOI: | 10.1080/00207543.2011.630042 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1080/00207543.2011.630042 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:10 |
| Dernière modification: | 05 avr. 2024 10:56 |
| Citer en APA 7: | Bettayeb, B., Bassetto, S., Vialletelle, P., & Tollenaere, M. (2012). Quality and exposure control in semiconductor manufacturing. Part I: Modelling. International Journal of Production Research, 50(23), 6835-6851. https://doi.org/10.1080/00207543.2011.630042 |
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