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Un nuage de mots est une représentation visuelle des mots les plus fréquemment utilisés dans un texte ou un ensemble de textes. Les mots apparaissent dans différentes tailles, la taille de chaque mot étant proportionnelle à sa fréquence d'apparition dans le texte. Plus un mot est utilisé fréquemment, plus il apparaît en grand dans le nuage de mots. Cette technique permet de visualiser rapidement les thèmes et les concepts les plus importants d'un texte.
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Lamontagne, B., Sacher, E., & Wertheimer, M. R. (1994). The Au/Si(100) (1 × 1)-H interface, as studied by XPS and AFM: a model of the interfacial reaction. Applied Surface Science, 78(4), 399-411. Lien externe
Shi, M. K., Lamontagne, B., Selmani, A., Martinu, L., Sacher, E., Wertheimer, M. R., & Yelon, A. (1994). Metallization of Teflon PFA. I. Interactions of evaporated Cr and Al measured by X-ray photoelectron spectroscopy. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 12(1), 29-34. Lien externe
Shi, M. K., Lamontagne, B., Selmani, A., Martinu, L., Sacher, E., Wertheimer, M. R., & Yelon, A. (1994). Metallization of Teflon PFA. II. Interactions of Ti, Ag, and Au measured by X-ray photoelectron spectroscopy. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 12(3), 807-812. Lien externe
Shi, M.-K., Lamontagne, B., Selmani, A., & Martinu, L. (1994). X-ray photoelectron spectroscopy study of X-ray irradiated metal/fluoropolymer interfaces. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 12(1), 44-50. Lien externe
Lamontagne, B., Sacher, E., & Wertheimer, M. R. (1993). X-ray photoelectron diffraction and spectroscopy of sputter-deposited or evaporated coinage metals on Si(100). Applied Surface Science, 64(3), 205-213. Lien externe
Shi, M. K., Lamontagne, B., Martinu, L., & Selmani, A. (1993). X-Ray-Induced Modification Of Metal Fluoropolymer Interfaces. Journal of Applied Physics, 74(3), 1744-1746. Lien externe
Lamontagne, B., Sacher, E., & Wertheimer, M. R. (1992). Amorphization of c‐Si by the sputter deposition of Au studied by x‐ray photoelectron diffraction. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 10(4), 1002-1005. Lien externe
Lamontagne, B., Küttel, O. M., & Wertheimer, M. R. (1991). Etching of polymers in microwave/radio-frequency O2-CF4 plasma. Canadian Journal of Physics, 69(3-4), 202-206. Lien externe
Lamontagne, B., Sacher, E., & Wertheimer, M. R. (1991). Silicon-carbon reaction provoked by the sputter cleaning of lightly contaminated crystalline silicon. Applied Surface Science, 52(1), 71-76. Lien externe
Wróbel, A. M., Lamontagne, B., & Wertheimer, M. R. (1988). Large-area microwave and radiofrequency plasma etching of polymers. Plasma Chemistry and Plasma Processing, 8(3), 315-329. Lien externe
Wróbel, A. M., Lamontagne, B., & Wertheimer, M. R. (août 1987). Large area microwave plasma etching of polymers [Communication écrite]. 8th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 1987), Tokyo, Japan. Lien externe
Lamontagne, B., Wróbel, A. M., Jalbert, G., & Wertheimer, M. R. (1987). Large-area microwave plasma etching of polyimide. Journal of Physics D: Applied Physics, 20(7), 844-844. Lien externe