B. Lamontagne, O. M. Küttel, Michael R. Wertheimer
Article de revue (1991)
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Titre de la revue
:
Canadian Journal of Physics
(
vol.
69
,
no
3-4
)
Maison d'édition:
Canadian Science Publishing
DOI:
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:38186
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:26
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:29
Citer en APA 7:
Lamontagne, B., Küttel, O. M., & Wertheimer, M. R. (1991). Etching of polymers in microwave/radio-frequency O2-CF4 plasma. Canadian Journal of Physics, 69(3-4), 202-206. https://doi.org/10.1139/p91-033
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