B. Lamontagne, Edward Sacher, Michael R. Wertheimer
Article de revue (1992)
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Titre de la revue
:
Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films
(
vol.
10
,
no
4
)
Maison d'édition:
American Vacuum Society
DOI:
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:38188
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:26
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:29
Citer en APA 7:
Lamontagne, B., Sacher, E., & Wertheimer, M. R. (1992). Amorphization of c‐Si by the sputter deposition of Au studied by x‐ray photoelectron diffraction. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 10(4), 1002-1005. https://doi.org/10.1116/1.578193
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