Amorphization of c‐Si by the sputter deposition of Au studied by x‐ray photoelectron diffraction

B. Lamontagne, Edward Sacher et Michael R. Wertheimer

Article de revue (1992)

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Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/38188/
Titre de la revue:	Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films (vol. 10, no 4)
Maison d'édition:	American Vacuum Society
DOI:	10.1116/1.578193
URL officielle:	https://doi.org/10.1116/1.578193
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:26
Dernière modification:	05 avr. 2024 11:32

Citer en APA 7:	Lamontagne, B., Sacher, E., & Wertheimer, M. R. (1992). Amorphization of c‐Si by the sputter deposition of Au studied by x‐ray photoelectron diffraction. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 10(4), 1002-1005. https://doi.org/10.1116/1.578193
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