500-period epitaxial Ge/Si0.18Ge0.82 multi-quantum wells on silicon

Simone Assali, Sebastian Koelling, Zeinab Abboud, Jérôme Nicolas, Anis Attiaoui, Oussama Moutanabbir

Article de revue (2022)

Accéder à ce document
Lien externe
Ce document n'est pas archivé dans PolyPublie, mais peut être consulté chez l'éditeur officiel
Adresse URL de PolyPublie:
Titre de la revue :
Journal of Applied Physics ( vol. 132 , no 17 )
Maison d'édition:
AIP Publishing
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:52059
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 14:58
Dernière modification:
14 oct. 2026 14:09
Citer en APA 7:
Assali, S., Koelling, S., Abboud, Z., Nicolas, J., Attiaoui, A., & Moutanabbir, O. (2022). 500-period epitaxial Ge/Si0.18Ge0.82 multi-quantum wells on silicon. Journal of Applied Physics, 132(17), 175304 (9 pages). https://doi.org/10.1063/5.0119624

Statistiques

Dimensions

Actions réservées au personnel

Afficher document
Afficher document