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Erratum: Strain and relaxation effects in InAsP/InP multiple quantum well optical modulator devices grown by metal-organic vapor phase epitaxy

R. Y. F. Yip, A. Ait Ouali, A. Bensaada, P. Desjardins, M. Beaudoin, L. Isnard, J. L. Brebner, John F. Currie et Rémo A. Masut

Article de revue (1997)

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Renseignements supplémentaires: Erratum pour l'article publié dans Journal of Applied Physics, vol. 81, no 4, p. 1905
Département: Département de génie physique
Centre de recherche: GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/29963/
Titre de la revue: Journal of Applied Physics (vol. 82, no 12)
Maison d'édition: American Institute of Physics
DOI: 10.1063/1.366538
URL officielle: https://doi.org/10.1063/1.366538
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:23
Dernière modification: 25 sept. 2024 16:11
Citer en APA 7: Yip, R. Y. F., Ait Ouali, A., Bensaada, A., Desjardins, P., Beaudoin, M., Isnard, L., Brebner, J. L., Currie, J. F., & Masut, R. A. (1997). Erratum: Strain and relaxation effects in InAsP/InP multiple quantum well optical modulator devices grown by metal-organic vapor phase epitaxy. Journal of Applied Physics, 82(12), 6372-6372. https://doi.org/10.1063/1.366538

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