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Strain and relaxation effects in InAsP/InP multiple quantum well optical modulator devices grown by metalorganic vapor phase epitaxy

R. Y.-F. Yip, A. Aït-Ouali, A. Bensaada, Patrick Desjardins, M. Beaudoin, L. Isnard, John Low Brebner, John F. Currie et Rémo A. Masut

Article de revue (1997)

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Département: Département de génie physique
Centre de recherche: GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/29961/
Titre de la revue: Journal of Applied Physics (vol. 81, no 4)
Maison d'édition: American Institute of Physics
DOI: 10.1063/1.365549
URL officielle: https://doi.org/10.1063/1.365549
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:23
Dernière modification: 05 avr. 2024 11:19
Citer en APA 7: Yip, R. Y.-F., Aït-Ouali, A., Bensaada, A., Desjardins, P., Beaudoin, M., Isnard, L., Brebner, J. L., Currie, J. F., & Masut, R. A. (1997). Strain and relaxation effects in InAsP/InP multiple quantum well optical modulator devices grown by metalorganic vapor phase epitaxy. Journal of Applied Physics, 81(4), 1905-1915. https://doi.org/10.1063/1.365549

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