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Nuage de motsUn nuage de mots est une représentation visuelle des mots les plus fréquemment utilisés dans un texte ou un ensemble de textes. Les mots apparaissent dans différentes tailles, la taille de chaque mot étant proportionnelle à sa fréquence d'apparition dans le texte. Plus un mot est utilisé fréquemment, plus il apparaît en grand dans le nuage de mots. Cette technique permet de visualiser rapidement les thèmes et les concepts les plus importants d'un texte.
Dans le contexte de cette page, le nuage de mots a été généré à partir des publications de l'auteur {}. Les mots présents dans ce nuage proviennent des titres, résumés et mots-clés des articles et travaux de recherche de cet auteur. En analysant ce nuage de mots, vous pouvez obtenir un aperçu des sujets et des domaines de recherche les plus récurrents et significatifs dans les travaux de cet auteur.Le nuage de mots est un outil utile pour identifier les tendances et les thèmes principaux dans un corpus de textes, facilitant ainsi la compréhension et l'analyse des contenus de manière visuelle et intuitive.
Gunde, M., Jay, A., Poberžnik, M., Salles, N., Richard, N., Landa, G., Mousseau, N., Martin-Samos, L., & Hémeryck, A. (2024). Exploring potential energy surfaces to reach saddle points above convex regions. The Journal of Chemical Physics, 160(23), 232501 (13 pages). Lien externe
Jay, A., Hémeryck, A., Richard, N., Martin-Samos, L., Raine, M., Le Roch, A., Mousseau, N., Goiffon, V., Paillet, P., Gaillardin, M., & Magnan, P. (2018). Simulation of Single-Particle Displacement Damage in Silicon. Part III: First Principle Characterization of Defect Properties. IEEE Transactions on Nuclear Science, 65(2), 724-731. Lien externe
Jay, A., Raine, M., Richard, N., Mousseau, N., Goiffon, V., Hémeryck, A., & Magna, P. (2017). Simulation of Single Particle Displacement Damage in Silicon-Part II: Generation and Long-Time Relaxation of Damage Structure. IEEE Transactions on Nuclear Science, 64(1), 141-148. Lien externe
Salles, N., Richard, N., Mousseau, N., & Hémeryck, A. (2017). Strain-driven diffusion process during silicon oxidation investigated by coupling density functional theory and activation relaxation technique. Journal of Chemical Physics, 147(5), 054701 (9 pages). Lien externe
