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Documents dont l'auteur est "Detavernier, Christophe"

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Nombre de documents: 5

C

Coia, C., Lavoie, C., D'Heurle, F. M., Detavernier, C., Desjardins, P., & Kellock, A. J. (mai 2005). Reactive diffusion in the Ni-Si system: Influence of Ni thickness on the phase formation sequence [Communication écrite]. 207th Meeting of the Electrochemical Society, Québec, Canada. Lien externe

D

Demeulemeester, J., Schrauwen, A., Nakatsuka, O., Zaima, S., Adachi, M., Shimura, Y., Comrie, C. M., Fleischmann, C., Detavernier, C., Temst, K., & Vantomme, A. (2011). Sn diffusion during Ni germanide growth on Ge1–xSnx. Applied Physics Letters, 99(21), 211905 (3 pages). Lien externe

G

Gaudet, S., De Keyser, K., Lambert-Milot, S., Jordan-Sweet, J., Detavernier, C., Lavoie, C., & Desjardins, P. (2013). Three dimensional reciprocal space measurement by x-ray diffraction using linear and area detectors: Applications to texture and defects determination in oriented thin films and nanoprecipitates. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 31(2). Lien externe

L

Lavoie, C., Detavernier, C., Cabral, C. J., d'Heurle, F. M., Kellock, A. J., Jordan-Sweet, J., & Harper, J. M. E. (2006). Effects of additive elements on the phase formation and morphological stability of nickel monosilicide films. Microelectronic Engineering, 83(11-12), 2042-2054. Lien externe

Lavoie, C., Coia, C., D'heurle, F. M., Detavernier, C., Cabral, C., Desjardins, P., & Kellock, A. J. (juillet 2004). Reactive Diffusion in the Ni-Si System: Phase Sequence and Formation of Metal-Rich Phases [Communication écrite]. Diffusion in Materials: Dimat 2004 : 6th International Conference on Diffusion in Materials, Cracow, Poland. Lien externe

Liste produite: Fri Dec 5 04:35:59 2025 EST.