Jelly Demeulemeester, A. Schrauwen, Osamu Nakatsuka, Shigeaki Zaima, M. Adachi, Yosuke Shimura, C. M. Comrie, Claudia Fleischmann, Christophe Detavernier, K. Temst, A. Vantomme
Article de revue (2011)
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Mots clés
Département:
Unité de recherche:
Organismes subventionnaires:
FWO, JSPS (Japan), NRF in South Africa, SPIRIT
Numéro de subvention:
GOA/2009/006, CREA/07/005, IAP P6/42, 227012
Adresse URL de PolyPublie:
Titre de la revue
:
Applied Physics Letters
(
vol.
99
,
no
21
)
Maison d'édition:
American Institute of Physics
DOI:
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:69291
ORCID
Date du dépôt:
29 oct. 2025 11:21
Dernière modification:
14 oct. 2026 14:29
Citer en APA 7:
Demeulemeester, J., Schrauwen, A., Nakatsuka, O., Zaima, S., Adachi, M., Shimura, Y., Comrie, C. M., Fleischmann, C., Detavernier, C., Temst, K., & Vantomme, A. (2011). Sn diffusion during Ni germanide growth on Ge1–xSnx. Applied Physics Letters, 99(21), 211905 (3 pages). https://doi.org/10.1063/1.3662925
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