Christian Lavoie, Christophe Detavernier, Cyril Jr. Cabral, François M. d'Heurle, Andrew J. Kellock, Jean Jordan-Sweet, James M. E. Harper
Article de revue (2006)
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Titre de la revue
:
Microelectronic Engineering
(
vol.
83
,
no
11-12
)
Maison d'édition:
Elsevier BV
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:67615
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Date du dépôt:
14 août 2025 16:31
Dernière modification:
14 oct. 2026 14:28
Citer en APA 7:
Lavoie, C., Detavernier, C., Cabral, C. J., d'Heurle, F. M., Kellock, A. J., Jordan-Sweet, J., & Harper, J. M. E. (2006). Effects of additive elements on the phase formation and morphological stability of nickel monosilicide films. Microelectronic Engineering, 83(11-12), 2042-2054. https://doi.org/10.1016/j.mee.2006.09.006
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