Patrick Daoust, Patrick Del Vecchio, Nicolas Rotaru, Alexis Dubé-Valade, Simone Assali, Anis Attiaoui, Gérard Tanguy Eric Gnato Daligou, Sebastian Koelling, Lu Luo, Eloïse Rahier, Oussama Moutanabbir
Article de revue (2025)
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Titre de la revue
:
Meeting abstracts/Meeting abstracts (Electrochemical Society. CD-ROM)
(
vol.
MA2025-01
,
no
36
)
Maison d'édition:
Institute of Physics
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:66649
ORCID
Date du dépôt:
22 juil. 2025 12:11
Dernière modification:
14 oct. 2026 14:27
Citer en APA 7:
Daoust, P., Del Vecchio, P., Rotaru, N., Dubé-Valade, A., Assali, S., Attiaoui, A., Daligou, G. T. E. G., Koelling, S., Luo, L., Rahier, E., & Moutanabbir, O. (2025). Reduced Pressure Chemical Vapour Deposition Growth of Nuclear Spin-Free 70Ge/28Si70Ge Heterostructures on Industrial Si-Ge Substrates. Meeting abstracts/Meeting abstracts (Electrochemical Society. CD-ROM), MA2025-01(36), 1717 (1 page). https://doi.org/10.1149/ma2025-01361717mtgabs
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