Foundations of plasma enhanced chemical vapor deposition of functional coatings

Rony Snyders, Dirk Hegemann, Damien Thiry, Oleg Zabeida, Jolanta-Ewa Sapieha, Ludvik Martinu

Article de revue (2023)

Accéder à ce document
Disponible
Libre accès au texte intégral dans PolyPublie et chez l'éditeur officiel
Adresse URL de PolyPublie:
Titre de la revue :
Plasma Sources Science and Technology ( vol. 32 , no 7 )
Maison d'édition:
IOP Publishing Ltd
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:54798
ORCID
Date du dépôt:
30 août 2023 09:52
Dernière modification:
14 oct. 2026 14:13
Citer en APA 7:
Snyders, R., Hegemann, D., Thiry, D., Zabeida, O., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2023). Foundations of plasma enhanced chemical vapor deposition of functional coatings. Plasma Sources Science and Technology, 32(7), 36 pages. https://doi.org/10.1088/1361-6595/acdabc

Statistiques

Total des téléchargements à partir de PolyPublie

Téléchargements par année

Provenance des téléchargements

Dimensions

Actions réservées au personnel

Afficher document
Afficher document