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Foundations of plasma enhanced chemical vapor deposition of functional coatings

R. Snyders, D. Hegemann, D. Thiry, O. Zabeida, Jolanta-Ewa Sapieha et Ludvik Martinu

Article de revue (2023)

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Département: Département de génie physique
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/54798/
Titre de la revue: Plasma Sources Science and Technology (vol. 32, no 7)
Maison d'édition: IOP Publishing Ltd
DOI: 10.1088/1361-6595/acdabc
URL officielle: https://doi.org/10.1088/1361-6595/acdabc
Date du dépôt: 30 août 2023 09:52
Dernière modification: 30 sept. 2024 05:03
Citer en APA 7: Snyders, R., Hegemann, D., Thiry, D., Zabeida, O., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2023). Foundations of plasma enhanced chemical vapor deposition of functional coatings. Plasma Sources Science and Technology, 32(7), 36 pages. https://doi.org/10.1088/1361-6595/acdabc

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