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Composition uniformity and large degree of strain relaxation in MBE-grown thick GeSn epitaxial layers, containing 16% Sn

Jaswant Rathore, Alisha Nanwani, Samik Mukherjee, Sudipta Das, Oussama Moutanabbir et Suddhasatta Mahapatra

Article de revue (2021)

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Département: Département de génie physique
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/48169/
Titre de la revue: Journal of Physics D: Applied Physics (vol. 54, no 18)
Maison d'édition: IOP Publishing Ltd
DOI: 10.1088/1361-6463/abe1e8
URL officielle: https://doi.org/10.1088/1361-6463/abe1e8
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:00
Dernière modification: 25 sept. 2024 16:37
Citer en APA 7: Rathore, J., Nanwani, A., Mukherjee, S., Das, S., Moutanabbir, O., & Mahapatra, S. (2021). Composition uniformity and large degree of strain relaxation in MBE-grown thick GeSn epitaxial layers, containing 16% Sn. Journal of Physics D: Applied Physics, 54(18), 185105 (10 pages). https://doi.org/10.1088/1361-6463/abe1e8

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