Simone Assali, Anis Attiaoui, Samik Mukherjee, Jérôme Nicolas et Oussama Moutanabbir
Article de revue (2018)
Un lien externe est disponible pour ce documentDépartement: | Département de génie physique |
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URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/41490/ |
Titre de la revue: | Journal of Vacuum Science & Technology B (vol. 36, no 6) |
Maison d'édition: | American Vacuum Society |
DOI: | 10.1116/1.5047909 |
URL officielle: | https://doi.org/10.1116/1.5047909 |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:02 |
Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:27 |
Citer en APA 7: | Assali, S., Attiaoui, A., Mukherjee, S., Nicolas, J., & Moutanabbir, O. (2018). TEOS layers for low temperature processing of group IV optoelectronic devices. Journal of Vacuum Science & Technology B, 36(6), 8 pages. https://doi.org/10.1116/1.5047909 |
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