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TEOS layers for low temperature processing of group IV optoelectronic devices

Simone Assali, Anis Attiaoui, Samik Mukherjee, Jérôme Nicolas et Oussama Moutanabbir

Article de revue (2018)

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Département: Département de génie physique
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/41490/
Titre de la revue: Journal of Vacuum Science & Technology B (vol. 36, no 6)
Maison d'édition: American Vacuum Society
DOI: 10.1116/1.5047909
URL officielle: https://doi.org/10.1116/1.5047909
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:02
Dernière modification: 25 sept. 2024 16:27
Citer en APA 7: Assali, S., Attiaoui, A., Mukherjee, S., Nicolas, J., & Moutanabbir, O. (2018). TEOS layers for low temperature processing of group IV optoelectronic devices. Journal of Vacuum Science & Technology B, 36(6), 8 pages. https://doi.org/10.1116/1.5047909

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