Low-temperature growth and critical epitaxial thickness of fully-strained metastable Ge₁₋ₓSnₓ (x <0.26) alloys on Ge(001)2x1

Gürdal, Osman; Desjardins, Patrick; Carlsson, J. R. A.; Taylor, N.; Radamson, H. H.; Sundgren, J.-E.; Greene, J. E.; Gürdal, Osman; Desjardins, Patrick; Carlsson, J. R. A.; Taylor, N.; Radamson, H. H.; Sundgren, J.-E.; Greene, J. E.

Low-temperature growth and critical epitaxial thickness of fully-strained metastable Ge₁₋ₓSnₓ (x <0.26) alloys on Ge(001)2x1

Osman Gürdal, Patrick Desjardins , J. R. A. Carlsson, N. Taylor, H. H. Radamson, J.-E. Sundgren, J. E. Greene

Article de revue (1998)

Accéder à ce document

Lien externe

Ce document n'est pas archivé dans PolyPublie, mais peut être consulté chez l'éditeur officiel

Voir chez l'éditeur officiel

Département:

Département de génie physique

Adresse URL de PolyPublie:

https://publications.polymtl.ca/29632/

Titre de la revue :

Journal of Applied Physics ( vol. 83 , no 1 )

Maison d'édition:

American Institute of Physics

DOI:

10.1063/1.366690

URL officielle:

https://doi.org/10.1063/1.366690

OAI:

oai:publications.polymtl.ca:29632

ORCID

Date du dépôt:

18 avr. 2023 15:23

Dernière modification:

14 oct. 2026 13:07

Citer en APA 7:

Gürdal, O., Desjardins, P., Carlsson, J. R. A., Taylor, N., Radamson, H. H., Sundgren, J.-E., & Greene, J. E. (1998). Low-temperature growth and critical epitaxial thickness of fully-strained metastable Ge₁₋ₓSnₓ (x <0.26) alloys on Ge(001)2x1. Journal of Applied Physics, 83(1), 162-170. https://doi.org/10.1063/1.366690

Statistiques

Dimensions

Actions réservées au personnel

Afficher document