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Temperature-modulated Si(001): as gas-source molecular beam epitaxy: growth kinetics and As incorporation

H. Kim, G. Glass, J. A. N. T. Soares, Patrick Desjardins et J. E. Greene

Article de revue (2001)

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Département: Département de génie physique
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/27302/
Titre de la revue: Applied Physics Letters (vol. 79, no 20)
Maison d'édition: American Institute of Physics
DOI: 10.1063/1.1415420
URL officielle: https://doi.org/10.1063/1.1415420
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:21
Dernière modification: 05 avr. 2024 11:14
Citer en APA 7: Kim, H., Glass, G., Soares, J. A. N. T., Desjardins, P., & Greene, J. E. (2001). Temperature-modulated Si(001): as gas-source molecular beam epitaxy: growth kinetics and As incorporation. Applied Physics Letters, 79(20), 3263-3265. https://doi.org/10.1063/1.1415420

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