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Continuum model of surface roughening and epitaxial breakdown during low-temperature Ge(001) molecular beam epitaxy

K. A. Bratland, T. Spila, D. G. Cahill, J. E. Greene et Patrick Desjardins

Article de revue (2011)

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Département: Département de génie physique
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/17153/
Titre de la revue: Journal of Applied Physics (vol. 109, no 6)
Maison d'édition: American Institute of Physics
DOI: 10.1063/1.3556745
URL officielle: https://doi.org/10.1063/1.3556745
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:11
Dernière modification: 25 sept. 2024 15:54
Citer en APA 7: Bratland, K. A., Spila, T., Cahill, D. G., Greene, J. E., & Desjardins, P. (2011). Continuum model of surface roughening and epitaxial breakdown during low-temperature Ge(001) molecular beam epitaxy. Journal of Applied Physics, 109(6). https://doi.org/10.1063/1.3556745

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