Pierre Turcotte-Tremblay, Matthieu Guihard, Simon Gaudet, Martin Chicoine, Christian Lavoie, Patrick Desjardins
et François Schiettekatte
Article de revue (2013)
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| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/13002/ |
| Titre de la revue: | Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena (vol. 31, no 5) |
| Maison d'édition: | American Vacuum Society |
| DOI: | 10.1116/1.4821550 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1116/1.4821550 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:10 |
| Dernière modification: | 25 sept. 2024 15:49 |
| Citer en APA 7: | Turcotte-Tremblay, P., Guihard, M., Gaudet, S., Chicoine, M., Lavoie, C., Desjardins, P., & Schiettekatte, F. (2013). Thin film Ni-Si solid-state reactions: Phase formation sequence on amorphized Si. Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena, 31(5). https://doi.org/10.1116/1.4821550 |
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