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Documents dont l'auteur est "Sheng, Shuran"

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Nombre de documents: 3

Sheng, S., Sacher, E., & Yelon, A. (2001). Structural Changes in Amorphous Silicon Studied by X-Ray Photoemission Spectroscopy: a Phenomenon Independent of the Staebler-Wronski Effect? Journal of Non-Crystalline Solids, 282(2-3), 165-172. Lien externe

Sheng, S., Sacher, E., & Yelon, A. (avril 2000). X-ray photoemission spectroscopic study of light-induced structural changes in amorphous silicon [Communication écrite]. Amorphous and Heterogeneous Silicon Thin Films - 2000. Symposium, San Francisco, CA, USA. Lien externe

Sheng, S., Sacher, E., Yelon, A., Branz, H. M., & Masson, D. P. (avril 1999). Structural changes in a-Si:H studied by X-ray photoemission spectroscopy [Communication écrite]. 1999 MRS Spring Meeting - Symposium A 'Amorphous and Heterogenous Silicon Thin Films: Fundamentals to Devices', San Francisco, CA. Publié dans Materials Research Society Symposium - Proceedings, 557. Lien externe

Liste produite: Thu Nov 21 04:21:04 2024 EST.