Structural Changes in Amorphous Silicon Studied by X-Ray Photoemission Spectroscopy: a Phenomenon Independent of the Staebler-Wronski Effect?

Shuran Sheng, Edward Sacher, Arthur Yelon

Article de revue (2001)

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Renseignements supplémentaires:
Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux
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Titre de la revue :
Journal of Non-Crystalline Solids ( vol. 282 , no 2-3 )
Maison d'édition:
Elsevier
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:27041
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:21
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:02
Citer en APA 7:
Sheng, S., Sacher, E., & Yelon, A. (2001). Structural Changes in Amorphous Silicon Studied by X-Ray Photoemission Spectroscopy: a Phenomenon Independent of the Staebler-Wronski Effect? Journal of Non-Crystalline Solids, 282(2-3), 165-172. https://doi.org/10.1016/s0022-3093%2801%2900339-8

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