S. R. Sheng, Edward Sacher et Arthur Yelon
Article de revue (2001)
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| Renseignements supplémentaires: | Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux |
|---|---|
| Département: | Département de génie physique |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/27041/ |
| Titre de la revue: | Journal of Non-Crystalline Solids (vol. 282, no 2-3) |
| Maison d'édition: | Elsevier |
| DOI: | 10.1016/s0022-3093(01)00339-8 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1016/s0022-3093%2801%2900339-8 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:21 |
| Dernière modification: | 05 avr. 2024 11:14 |
| Citer en APA 7: | Sheng, S. R., Sacher, E., & Yelon, A. (2001). Structural Changes in Amorphous Silicon Studied by X-Ray Photoemission Spectroscopy: a Phenomenon Independent of the Staebler-Wronski Effect? Journal of Non-Crystalline Solids, 282(2-3), 165-172. https://doi.org/10.1016/s0022-3093%2801%2900339-8 |
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