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Documents dont l'auteur est "Cabral, C."

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Nombre de documents: 3

2005

Lavoie, C., Coia, C., D'heurle, F. M., Detavernier, C., Cabral, C., Desjardins, P., & Kellock, A. J. (juillet 2004). Reactive Diffusion in the Ni-Si System: Phase Sequence and Formation of Metal-Rich Phases [Communication écrite]. Diffusion in Materials: Dimat 2004 : 6th International Conference on Diffusion in Materials, Cracow, Poland. Lien externe

2001

Chun, J. S., Desjardins, P., Lavoie, C., Petrov, I., Cabral, C., & Greene, J. E. (2001). Interfacial Reaction Pathways and Kinetics During Annealing of 111-Textured Al-Tin Bilayers: a Synchrotron X-Ray Diffraction and Transmission Electron Microscopy Study. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 19(5), 2207-2216. Lien externe

Chun, J. S., Desjardins, P., Lavoie, C., Shin, C. S., Cabral, C., Petrov, I., & Greene, J. E. (2001). Interfacial Reactions in Epitaxial Al/Tin(111) Model Diffusion Barriers: Formation of an Impervious Self-Limited Wurtzite- Structure Aln(0001) Blocking Layer. Journal of Applied Physics, 89(12), 7841-7845. Lien externe

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