Hard AlN films prepared by low duty cycle magnetron sputtering and by other deposition techniques

Kohout, Jiří; Qian, Jincheng; Schmitt, Thomas; Vernhes, Richard; Zabeida, Oleg; Sapieha, Jolanta-Ewa; Martinu, Ludvik; Kohout, Jiří; Qian, Jincheng; Schmitt, Thomas; Vernhes, Richard; Zabeida, Oleg; Sapieha, Jolanta-Ewa; Martinu, Ludvik

Hard AlN films prepared by low duty cycle magnetron sputtering and by other deposition techniques

Jiří Kohout, Jincheng Qian, Thomas Schmitt, Richard Vernhes, Oleg Zabeida, Jolanta-Ewa Sapieha , Ludvik Martinu

Article de revue (2017)

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Département:

Département de génie physique

Adresse URL de PolyPublie:

https://publications.polymtl.ca/38492/

Titre de la revue :

Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films ( vol. 35 , no 6 )

Maison d'édition:

AVS Science and Technology Society

DOI:

10.1116/1.4999460

URL officielle:

https://doi.org/10.1116/1.4999460

OAI:

oai:publications.polymtl.ca:38492

ORCID

Date du dépôt:

18 avr. 2023 15:04

Dernière modification:

14 oct. 2026 13:29

Citer en APA 7:

Kohout, J., Qian, J., Schmitt, T., Vernhes, R., Zabeida, O., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2017). Hard AlN films prepared by low duty cycle magnetron sputtering and by other deposition techniques. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 35(6), 9 pages. https://doi.org/10.1116/1.4999460

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