Stable reactive deposition of amorphous Al₂O₃ films with low residual stress and enhanced toughness using pulsed dc magnetron sputtering with very low duty cycle

Jiří Kohout, Étienne Bousser, Thomas Schmitt, Richard Vernhes, Oleg Zabeida, Jolanta-Ewa Sapieha, Ludvik Martinu

Article de revue (2016)

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Département:
Département de génie physique
Unité de recherche:
GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces
Adresse URL de PolyPublie:
https://publications.polymtl.ca/35290/
Titre de la revue :
Vacuum ( vol. 124 )
Maison d'édition:
Elsevier
DOI:
10.1016/j.vacuum.2015.11.017
URL officielle:
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2015.11.017
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:35290
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:05
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:24
Citer en APA 7:
Kohout, J., Bousser, É., Schmitt, T., Vernhes, R., Zabeida, O., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2016). Stable reactive deposition of amorphous Al₂O₃ films with low residual stress and enhanced toughness using pulsed dc magnetron sputtering with very low duty cycle. Vacuum, 124, 96-100. https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2015.11.017

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