Stable reactive deposition of amorphous Al₂O₃ films with low residual stress and enhanced toughness using pulsed dc magnetron sputtering with very low duty cycle

Jiří Kohout, Étienne Bousser, Thomas Schmitt, Richard Vernhes, Oleg Zabeida, Jolanta-Ewa Sapieha et Ludvik Martinu

Article de revue (2016)

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Département:	Département de génie physique
Centre de recherche:	GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/35290/
Titre de la revue:	Vacuum (vol. 124)
Maison d'édition:	Elsevier
DOI:	10.1016/j.vacuum.2015.11.017
URL officielle:	https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2015.11.017
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:05
Dernière modification:	05 avr. 2024 11:27

Citer en APA 7:	Kohout, J., Bousser, É., Schmitt, T., Vernhes, R., Zabeida, O., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2016). Stable reactive deposition of amorphous Al₂O₃ films with low residual stress and enhanced toughness using pulsed dc magnetron sputtering with very low duty cycle. Vacuum, 124, 96-100. https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2015.11.017
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