N. Bertrand, B. Drevillon, Jolanta-Ewa Sapieha
et Ludvik Martinu
Communication écrite (1996)
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| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/31501/ |
| Nom de la conférence: | ICMCTF"96 |
| Date(s) de la conférence: | 1996-01-01 - 1996-12-31 |
| Titre de la revue: | Thin solid films (vol. 290-291) |
| Maison d'édition: | Elsevier |
| DOI: | 10.1016/s0040-6090(96)09179-1 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1016/s0040-6090%2896%2909179-1 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:24 |
| Dernière modification: | 05 avr. 2024 11:21 |
| Citer en APA 7: | Bertrand, N., Drevillon, B., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (janvier 1996). In situ IR ellipsometry study of the adhesion and growth of plasma deposited silica thin films on stainless steel substrates [Communication écrite]. ICMCTF"96. Publié dans Thin solid films, 290-291. https://doi.org/10.1016/s0040-6090%2896%2909179-1 |
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