In situ IR ellipsometry study of the adhesion and growth of plasma deposited silica thin films on stainless steel substrates

Nicolas Bertrand, B. Drévillon, Jolanta-Ewa Sapieha, Ludvik Martinu

Communication écrite (1996)

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Nom de la conférence:
23rd International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films (ICMCTF"96)
Lieu de la conférence:
San Diego, CA, USA
Date(s) de la conférence:
1996-04-22 - 1996-04-26
Titre de la revue :
Thin solid films ( vol. 290-291 )
Maison d'édition:
Elsevier
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:31501
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:24
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:18
Citer en APA 7:
Bertrand, N., Drévillon, B., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (avril 1996). In situ IR ellipsometry study of the adhesion and growth of plasma deposited silica thin films on stainless steel substrates [Communication écrite]. 23rd International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films (ICMCTF"96), San Diego, CA, USA. Publié dans Thin solid films, 290-291. https://doi.org/10.1016/s0040-6090%2896%2909179-1

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