S. Grenier, K. Shanker, P. Tsantrizos et Frank Ajersch
Article de revue (1996)
Un lien externe est disponible pour ce document
| Renseignements supplémentaires: | Nom historique du département: Département de génie électrique et de génie informatique |
|---|---|
| Département: |
Département de génie électrique Département de génie informatique et génie logiciel |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/31283/ |
| Titre de la revue: | Surface & Coatings Technology (vol. 82, no 3) |
| Maison d'édition: | Elsevier |
| DOI: | 10.1016/0257-8972(95)02744-0 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1016/0257-8972%2895%2902744-0 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:24 |
| Dernière modification: | 05 avr. 2024 11:21 |
| Citer en APA 7: | Grenier, S., Shanker, K., Tsantrizos, P., & Ajersch, F. (1996). Deposition of TiN films using a thermal plasma reactive forming technology. Surface & Coatings Technology, 82(3), 311-316. https://doi.org/10.1016/0257-8972%2895%2902744-0 |
|---|---|
Statistiques
Dimensions
Actions réservées au personnel
|
Afficher document |
