Deposition of TiN films using a thermal plasma reactive forming technology

S. Grenier, K. Shanker, P. Tsantrizos, Frank Ajersch

Article de revue (1996)

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Renseignements supplémentaires:
Nom historique du département: Département de génie électrique et de génie informatique
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Titre de la revue :
Surface & Coatings Technology ( vol. 82 , no 3 )
Maison d'édition:
Elsevier
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:31283
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:24
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:18
Citer en APA 7:
Grenier, S., Shanker, K., Tsantrizos, P., & Ajersch, F. (1996). Deposition of TiN films using a thermal plasma reactive forming technology. Surface & Coatings Technology, 82(3), 311-316. https://doi.org/10.1016/0257-8972%2895%2902744-0

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