<  Retour au portail Polytechnique Montréal

Microstructure and strain relaxation in organometallic vapor phase epitaxy of strain-compensated GaInP/InAsP multilayers on InP(001)

Patrick Desjardins, H. Marchand, L. Isnard et Rémo A. Masut

Article de revue (1997)

Un lien externe est disponible pour ce document
Département: Département de génie physique
Centre de recherche: GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/30525/
Titre de la revue: Journal of Applied Physics (vol. 81, no 8)
Maison d'édition: American Institute of Physics
DOI: 10.1063/1.365049
URL officielle: https://doi.org/10.1063/1.365049
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:23
Dernière modification: 25 sept. 2024 16:12
Citer en APA 7: Desjardins, P., Marchand, H., Isnard, L., & Masut, R. A. (1997). Microstructure and strain relaxation in organometallic vapor phase epitaxy of strain-compensated GaInP/InAsP multilayers on InP(001). Journal of Applied Physics, 81(8), 3501-3511. https://doi.org/10.1063/1.365049

Statistiques

Dimensions

Actions réservées au personnel

Afficher document Afficher document