Competing strain relaxation mechanisms in organometallic vapor phase epitaxy of strain-compensated GaInP/InAsP multilayers on InP(001)

Patrick Desjardins, L. Isnard, H. Marchand, Rémo A. Masut

Article de revue (1998)

Accéder à ce document
Lien externe
Ce document n'est pas archivé dans PolyPublie, mais peut être consulté chez l'éditeur officiel
Renseignements supplémentaires:
Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux
Adresse URL de PolyPublie:
Titre de la revue :
Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films ( vol. 16 , no 2 )
Maison d'édition:
American Vacuum Society
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:29725
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:23
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:07
Citer en APA 7:
Desjardins, P., Isnard, L., Marchand, H., & Masut, R. A. (1998). Competing strain relaxation mechanisms in organometallic vapor phase epitaxy of strain-compensated GaInP/InAsP multilayers on InP(001). Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 16(2), 776-780. https://doi.org/10.1116/1.581058

Statistiques

Dimensions

Actions réservées au personnel

Afficher document
Afficher document