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Competing strain relaxation mechanisms in organometallic vapor phase epitaxy of strain-compensated GaInP/InAsP multilayers on InP(001)

Patrick Desjardins, L. Isnard, H. Marchand et Rémo A. Masut

Article de revue (1998)

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Renseignements supplémentaires: Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux
Département: Département de génie physique
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/29725/
Titre de la revue: Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films (vol. 16, no 2)
Maison d'édition: American Vacuum Society
DOI: 10.1116/1.581058
URL officielle: https://doi.org/10.1116/1.581058
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:23
Dernière modification: 05 avr. 2024 11:18
Citer en APA 7: Desjardins, P., Isnard, L., Marchand, H., & Masut, R. A. (1998). Competing strain relaxation mechanisms in organometallic vapor phase epitaxy of strain-compensated GaInP/InAsP multilayers on InP(001). Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 16(2), 776-780. https://doi.org/10.1116/1.581058

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