Patrick Desjardins, L. Isnard, H. Marchand et Rémo A. Masut
Article de revue (1998)
Un lien externe est disponible pour ce documentRenseignements supplémentaires: | Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux |
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Département: | Département de génie physique |
Centre de recherche: | GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces |
URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/29725/ |
Titre de la revue: | Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films (vol. 16, no 2) |
Maison d'édition: | American Vacuum Society |
DOI: | 10.1116/1.581058 |
URL officielle: | https://doi.org/10.1116/1.581058 |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:23 |
Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:11 |
Citer en APA 7: | Desjardins, P., Isnard, L., Marchand, H., & Masut, R. A. (1998). Competing strain relaxation mechanisms in organometallic vapor phase epitaxy of strain-compensated GaInP/InAsP multilayers on InP(001). Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 16(2), 776-780. https://doi.org/10.1116/1.581058 |
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