V. Fortin, G. Gagnon, M. Caron, S. C. Gujrathi, John F. Currie, L. Ouellet, Y. Tremblay et M. Biberger
Article de revue (1998)
Un lien externe est disponible pour ce documentRenseignements supplémentaires: | Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux |
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Département: | Département de génie physique |
URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/29689/ |
Titre de la revue: | Journal of Applied Physics (vol. 83, no 1) |
Maison d'édition: | American Institute of Physics |
DOI: | 10.1063/1.366710 |
URL officielle: | https://doi.org/10.1063/1.366710 |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:23 |
Dernière modification: | 05 avr. 2024 11:18 |
Citer en APA 7: | Fortin, V., Gagnon, G., Caron, M., Gujrathi, S. C., Currie, J. F., Ouellet, L., Tremblay, Y., & Biberger, M. (1998). The determination of phases formed in AlSiCu/TiN/Ti contact metallization structure of integrated circuits by x-ray diffraction. Journal of Applied Physics, 83(1), 132-138. https://doi.org/10.1063/1.366710 |
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