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Low-pressure organometallic vapor phase epitaxy of coherent InGaAsP/InP and InGaAsP/InAsP multilayers on InP(001)

S. Guillon, R. Y.-F. Yip, Patrick Desjardins, M. Chicoine, Z. Bougrioua, M. Beaudoin, A. Aït-Ouali et Rémo A. Masut

Article de revue (1998)

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Renseignements supplémentaires: Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux
Département: Département de génie physique
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/29636/
Titre de la revue: Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films (vol. 16, no 2)
Maison d'édition: American Vacuum Society
DOI: 10.1116/1.581521
URL officielle: https://doi.org/10.1116/1.581521
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:23
Dernière modification: 25 sept. 2024 16:11
Citer en APA 7: Guillon, S., Yip, R. Y.-F., Desjardins, P., Chicoine, M., Bougrioua, Z., Beaudoin, M., Aït-Ouali, A., & Masut, R. A. (1998). Low-pressure organometallic vapor phase epitaxy of coherent InGaAsP/InP and InGaAsP/InAsP multilayers on InP(001). Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 16(2), 781-785. https://doi.org/10.1116/1.581521

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