Ivo Utke, B. Dwir, Klaus Leifer, Fabio Cicoira
, P. Doppelt, P. Hoffmann et E. Kapon
Communication écrite (1999)
Document publié alors que les auteurs ou autrices n'étaient pas affiliés à Polytechnique Montréal
Un lien externe est disponible pour ce document
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/27773/ |
|---|---|
| Nom de la conférence: | 25th International Conference on Micro- and Nano-Engineering |
| Date(s) de la conférence: | 1999-09-21 - 1999-09-23 |
| Titre de la revue: | Microelectronic Engineering (vol. 53, no 1-4) |
| Maison d'édition: | Elsevier |
| DOI: | 10.1016/s0167-9317(00)00311-7 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1016/s0167-9317%2800%2900311-7 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:22 |
| Dernière modification: | 08 avr. 2025 02:17 |
| Citer en APA 7: | Utke, I., Dwir, B., Leifer, K., Cicoira, F., Doppelt, P., Hoffmann, P., & Kapon, E. (septembre 1999). Electron beam induced deposition of metallic tips and wires for microelectronics applications [Communication écrite]. 25th International Conference on Micro- and Nano-Engineering. Publié dans Microelectronic Engineering, 53(1-4). https://doi.org/10.1016/s0167-9317%2800%2900311-7 |
|---|---|
Statistiques
Dimensions
Actions réservées au personnel
|
Afficher document |
