Electron beam induced deposition of metallic tips and wires for microelectronics applications

I. Utke, B. Dwir, K. Leifer, Fabio Cicoira, P. Doppelt, P. Hoffmann et E. Kapon

Communication écrite (1999)

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URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/27773/
Nom de la conférence:	25th International Conference on Micro- and Nano-Engineering
Date(s) de la conférence:	1999-09-21 - 1999-09-23
Titre de la revue:	Microelectronic Engineering (vol. 53, no 1-4)
Maison d'édition:	Elsevier
DOI:	10.1016/s0167-9317(00)00311-7
URL officielle:	https://doi.org/10.1016/s0167-9317%2800%2900311-7
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:22
Dernière modification:	05 avr. 2024 11:15

Citer en APA 7:	Utke, I., Dwir, B., Leifer, K., Cicoira, F., Doppelt, P., Hoffmann, P., & Kapon, E. (septembre 1999). Electron beam induced deposition of metallic tips and wires for microelectronics applications [Communication écrite]. 25th International Conference on Micro- and Nano-Engineering. Publié dans Microelectronic Engineering, 53(1-4). https://doi.org/10.1016/s0167-9317%2800%2900311-7
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