Electron beam induced deposition of metallic tips and wires for microelectronics applications

Ivo Utke, B. Dwir, Klaus Leifer, Fabio Cicoira, P. Doppelt, P. Hoffmann, E. Kapon

Communication écrite (1999)

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Nom de la conférence:
25th International Conference on Micro- and Nano-Engineering
Date(s) de la conférence:
1999-09-21 - 1999-09-23
Titre de la revue :
Microelectronic Engineering ( vol. 53 , no 1-4 )
Maison d'édition:
Elsevier
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:27773
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:22
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:03
Citer en APA 7:
Utke, I., Dwir, B., Leifer, K., Cicoira, F., Doppelt, P., Hoffmann, P., & Kapon, E. (septembre 1999). Electron beam induced deposition of metallic tips and wires for microelectronics applications [Communication écrite]. 25th International Conference on Micro- and Nano-Engineering. Publié dans Microelectronic Engineering, 53(1-4). https://doi.org/10.1016/s0167-9317%2800%2900311-7

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