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Interfacial Reactions in Epitaxial Al/Tin(111) Model Diffusion Barriers: Formation of an Impervious Self-Limited Wurtzite- Structure Aln(0001) Blocking Layer

J. S. Chun, Patrick Desjardins, C. Lavoie, C. S. Shin, C. Cabral, I. Petrov et J. E. Greene

Article de revue (2001)

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Renseignements supplémentaires: Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux
Département: Département de génie physique
Centre de recherche: GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/27504/
Titre de la revue: Journal of Applied Physics (vol. 89, no 12)
Maison d'édition: American Institute of Physics
DOI: 10.1063/1.1372162
URL officielle: https://doi.org/10.1063/1.1372162
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:21
Dernière modification: 25 sept. 2024 16:08
Citer en APA 7: Chun, J. S., Desjardins, P., Lavoie, C., Shin, C. S., Cabral, C., Petrov, I., & Greene, J. E. (2001). Interfacial Reactions in Epitaxial Al/Tin(111) Model Diffusion Barriers: Formation of an Impervious Self-Limited Wurtzite- Structure Aln(0001) Blocking Layer. Journal of Applied Physics, 89(12), 7841-7845. https://doi.org/10.1063/1.1372162

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