Synchrotron x-ray diffraction and transmission electon microscopy studies of interfacial reaction paths and kinetics annealing of fully-002-textured Al/TiN bilayers

Chun, J.-S.; Carlsson, J. R. A.; Desjardins, Patrick; Bergstrom, D. B.; Petrov, I.; Greene, J. E.; Lavoie, C.; Cabral, C. , jr.; Chun, J.-S.; Carlsson, J. R. A.; Desjardins, Patrick; Bergstrom, D. B.; Petrov, I.; Greene, J. E.; Lavoie, C.; Cabral, C. , jr.

Synchrotron x-ray diffraction and transmission electon microscopy studies of interfacial reaction paths and kinetics annealing of fully-002-textured Al/TiN bilayers

J.-S. Chun, J. R. A. Carlsson, Patrick Desjardins , D. B. Bergstrom, I. Petrov, J. E. Greene, C. Lavoie, C. , jr. Cabral

Article de revue (2001)

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Département:

Département de génie physique

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Titre de la revue :

Journal of vacuum science & technology. B, Microelectronics and nanometer structures processing, measurement and phenomena ( vol. 19 , no 1 )

Maison d'édition:

American Vacuum Society

DOI:

10.1116/1.1322648

URL officielle:

https://doi.org/10.1116/1.1322648

OAI:

oai:publications.polymtl.ca:27503

ORCID

Date du dépôt:

18 avr. 2023 15:21

Dernière modification:

14 oct. 2026 13:03

Citer en APA 7:

Chun, J.-S., Carlsson, J. R. A., Desjardins, P., Bergstrom, D. B., Petrov, I., Greene, J. E., Lavoie, C., & Cabral, C. (2001). Synchrotron x-ray diffraction and transmission electon microscopy studies of interfacial reaction paths and kinetics annealing of fully-002-textured Al/TiN bilayers. Journal of vacuum science & technology. B, Microelectronics and nanometer structures processing, measurement and phenomena, 19(1), 182-191. https://doi.org/10.1116/1.1322648

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