Self-reducible CuII source reagents for the CVD of copper

Article de revue (2001)

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Titre de la revue :

Chemical Vapor Deposition ( vol. 7 , no 1 )

Maison d'édition:

Wiley

DOI:

URL officielle:

OAI:

oai:publications.polymtl.ca:27168

ORCID

Date du dépôt:

18 avr. 2023 15:21

Dernière modification:

14 oct. 2026 13:03

Citer en APA 7:

Ohta, T., Cicoira, F., Doppelt, P., Beitone, L., & Hoffmann, P. (2001). Self-reducible CuII source reagents for the CVD of copper. Chemical Vapor Deposition, 7(1), 28-31. https://doi.org/10.1002/1521-3862%28200101%297%3a1%3c28%3a%3aaid-cvde28%3e3.0.co%3b2-6

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